8455是一种环保型半光亮化学镀镍系列工艺,在工程性和功能性用途上都有卓越的表现。该工艺可在活性材料表面镀上均一的镍磷合金,应用范围广泛。例如铝合金,不锈钢、碳合金钢以及铜合金等不同基材上,也适合非导电体的化学沉镍。
8455A 60ml/L 8455B 150ml/L镀槽参数 范围 温度 85-90°C pH 4.4-5.2 承载面积 0.6-2.4 dm2/L 镍含量 5.0-6.2 g/L 沉积速率 15~20μm/h 沉积速率视温度,PH,浓度,及MTO状况而定。